Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions introducerar UltiDry multi-stage Roots vakuumpumpar
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions introducerar UltiDry multi-stage Roots vakuumpumpar
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions, som är en del av den globala Busch Group, presenterar de nya UltiDry multi-stage Roots vakuumpumparna. Dessa pumpar är designade för krävande halvledarapplikationer och kombinerar robust prestanda med hög energieffektivitet och processflexibilitet.
UltiDry vakuumpumpar är konstruerade för att tåla korrosiva gaser, aggressiva biprodukter och stora mängder pulver. Den oljefria, flerstegskompressionen säkerställer en ren och torr vakuumgenerering utan kontaminering, vilket gör dem idealiska för processer som kemisk ångavsättning (CVD), atomlageravsättning (ALD) och fysisk ångavsättning (PVD).
Patenterat spolningssystem och betydande energibesparingar
En av de viktigaste innovationerna i UltiDry är det patenterade spolningssystemet, utvecklat för att skydda vakuumpumpen genom att spola bort föroreningar som pulver. Denna funktion garanterar stabil prestanda och smidig drift, även i processer med mycket pulver.
Energiförbrukningen är en avgörande kostnadsfaktor i halvledarfabriker. Tack vare sin optimerade flerstegsdesign erbjuder UltiDry energibesparingar på upp till 87 % jämfört med andra vakuumpumpar i samma klass. Det minskar inte bara koldioxidavtrycket, utan hjälper också kunder att nå sina hållbarhets- och kostnadseffektivitetsmål.
Vakuumpumpen fungerar tillförlitligt inom ett brett temperaturområde från 50 °C till 270 °C och anpassar sig flexibelt till olika processkrav. Detta gör den lika lämplig för temperatorkänsliga beläggningsprocesser som för korrosiva halvledarapplikationer. Genom att bibehålla stabil drift under varierande temperaturförhållanden stöder UltiDry konsekvent produktkvalitet och långa serviceintervall. Kombinationen av korrosionsbeständig beläggning, minskad användning av spolgas och hög energieffektivitet gör UltiDry till en hållbar, lättskött lösning för krävande tillverkningsmiljöer.





